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文檔簡介
1、1-3壓電復(fù)合材料兼具壓電陶瓷和聚合物兩者的優(yōu)點,具有壓電系數(shù)高、介電與機械損耗低、密度低、聲阻抗低的特點。與0-3壓電復(fù)合材料相比,1-3壓電復(fù)合材料具有很強的各向異性,其最終性能與一維壓電相在聚合物基體中的排布有重要聯(lián)系。當壓電相的軸向與電極方向(應(yīng)力方向)一致時,壓電相的應(yīng)變達到最大,此時復(fù)合材料在壓電相排布方向的性能遠超其他方向。因此,1-3壓電復(fù)合材料在超聲醫(yī)學和國防等領(lǐng)域有著非常廣闊的應(yīng)用前景。
近年來,光聲成像技
2、術(shù)在內(nèi)窺鏡方面的應(yīng)用引起了人們的關(guān)注。作為光聲醫(yī)學成像的核心器件,壓電微機械超聲換能器(piezoelectric micromachined ultrasonic transducers,pMUTs)開始受到越來越多的重視。目前pMUTs的研制主要采用壓電薄膜,與生物組織的聲阻抗匹配性差。雖然在體外應(yīng)用可以采用涂敷一層油膏來解決阻抗匹配問題,但對于內(nèi)窺鏡來說,這種解決方案顯然行不通。因此,采用壓電復(fù)合材料來研制光聲內(nèi)窺鏡用的pMUTs
3、是一項重要的技術(shù)要求。并且,由于pMUTs屬于微小型化器件,有望實現(xiàn)陣列化的內(nèi)窺鏡光聲成像。因此,實現(xiàn)光聲內(nèi)窺鏡的陣列化成像應(yīng)用,特別是實現(xiàn) pMUTs與Si基信號處理電路一體化集成,是pMUTs應(yīng)用于光聲內(nèi)窺鏡的另一項重要技術(shù)要求。由此,本文圍繞1-3壓電復(fù)合材料pMUTs與IC的集成,開展了以下幾個方面的探索研究:
1、開展了AlN薄膜的中頻濺射制備研究,對中頻濺射制備 AlN薄膜織構(gòu)特性的控制機制進行了系統(tǒng)研究,結(jié)果表明
4、:采用富氮過渡層進行兩步沉積,可以顯著提高AlN薄膜織構(gòu)程度,所制備的AlN薄膜不僅內(nèi)應(yīng)力小,而且壓電系數(shù)高,d33系數(shù)達到3.4 pC/N,為開展AlN壓電薄膜pMUTs研制奠定了基礎(chǔ)。
2、通過光刻-填充方法,制備了具有有序陣列的AlN微米柱/聚合物1-3壓電復(fù)合薄膜,研究了壓電相體積分數(shù)、聚合物種類對復(fù)合薄膜壓電和介電性能的影響。制備出的AlN/PVDF1-3壓電復(fù)合薄膜性能良好,壓電系數(shù)約為6 pC/N,為開展與Si基
5、IC一體化集成的pMUTs研制奠定了材料基礎(chǔ)。
3、為了進一步提高壓電薄膜的壓電系數(shù),增加 pMUTs器件的信號強度,本論文開展了PMN-PT1-3復(fù)合材料應(yīng)用于pMUTs的技術(shù)方法探索,為了與Si基IC工藝兼容,本論文采用了水熱制備 PMN-PT納米線。首先,本論文開展了工藝參數(shù)、表面活性劑等對PMN-PT納米線生長過程的影響規(guī)律研究,在優(yōu)化的工藝參數(shù)下,制備出了具有準同型相界的PMN-PT納米線,并對PMN-PT納米線的結(jié)
6、構(gòu)和電學性能進行了表征。測試結(jié)果顯示:PMN-PT納米線為鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的單晶,生長方向為[100]晶向,PMN-PT納米線的壓電系數(shù)約為409±4 pm/V,矯頑電場為2.8 kV/mm,剩余極化強度17.2μC/cm2,自發(fā)極化強度31.3μC/cm2,擊穿電場強度約為2.8×106 V/m。
4、在PMN-PT納米線制備工藝研究基礎(chǔ)上,論文開展了PMN-PT/PVDF1-3壓電復(fù)合材料的性能及其變化規(guī)律研究。以PMN-PT納
7、米線為壓電相,采用共混-流延方法制備了PMN-PT/PVDF1-3壓電復(fù)合材料,在開展了壓電相含量對復(fù)合材料力學和電學性能的影響研究的基礎(chǔ)上,重點考察了壓電相形態(tài)、聚合物基體和極化條件對壓電復(fù)合材料輸出特性的影響,研究結(jié)果表明:PMN-PT/PVDF1-3壓電復(fù)合材料具有良好的輸出特性,并且,通過極化電場強度、極化溫度和極化時間的改變,可以提高 PMN-PT納米線電疇的轉(zhuǎn)向重排,從而提高復(fù)合材料的壓電輸出特性。
5、為了演示P
8、MN-PT/PVDF1-3壓電復(fù)合材料在超聲換能方面的應(yīng)用潛力,本論文將所研制的PMN-PT/PVDF1-3壓電復(fù)合材料研制成為柔性發(fā)電機,所研制的PMN-PT/PVDF發(fā)電機的輸出電壓達到20 V,輸出電流達到60 nA,電流密度為20 nA/cm2,且輸出電壓與應(yīng)變呈近似線性關(guān)系,從而顯示了其良好超聲換能特性。在此基礎(chǔ)上,為了實現(xiàn)這種壓電復(fù)合材料與Si基IC的一體化集成,論文還開展了PMN-PT納米線有序陣列的制備研究,初步探索出了
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