直空陰極弧制備TiAlN薄膜的工藝及性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、真空陰極電弧離子鍍作為物理氣相沉積的一種方法，尤其適用于在金屬表面制備各種金屬膜或化合膜，本文用該方法制備了TiAlN薄膜，并對結(jié)構(gòu)和性能進行分析。TiAlN薄膜具有優(yōu)良的高溫耐腐蝕和抗氧化能力，而且其具有比TiN更好的耐摩性，具有廣闊的應(yīng)用前景。
　　在本文中，我們用真空陰極弧離子鍍制備了不同氮氣分壓和不同偏壓模式下的TiAIN薄膜，使用的靶材是Ti、Al合金靶，原子比Ti(50)：Al(50)，基片采用不銹鋼。實驗中發(fā)現(xiàn)膜層的

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