單晶硅太陽電池表面陷光微結構的制備與性能研究.pdf

1、晶體硅太陽電池一直占據(jù)光伏市場的主導地位，為了提高晶硅太陽電池的轉換效率，在硅片表面制備各種減反射微結構以增加光吸收一直是人們研究的熱點。本文圍繞單晶硅表面的光吸收問題，在硅片表面分別制備了金字塔、多孔、多層多孔、多孔-金字塔和多層多孔-金字塔等不同的減反射微結構。
　　在堿溶液各向異性腐蝕單晶硅片制備絨面的過程中，固定反應溫度和添加劑體積分數(shù)，重點研究了金字塔傾斜角α的大小與反射率間的關系，并分析了反應時間和NaOH溶液的濃度對

2、表面織構的影響。結果表明，當腐蝕時間為40min，NaOH質量分數(shù)為2.5％時，在400-1100nm波長范圍內，絨面平均反射率僅為10.54%。通過Origin軟件對實驗數(shù)據(jù)擬合，得到反射率與傾斜角度之間的擬合曲線和擬合關系方程式。
　　通過將硅片浸沒在含有HF/C2H5OH溶液的反應釜中，并通入逐漸變化的電流，在硅片表面可以形成折射率漸變的多層多孔硅減反射微結構，表面孔洞直徑為20-30nm，在400-1100nm波長范圍內的

3、反射率只有4.5%，利用菲涅爾公式可以很好的解釋多層多孔硅極低的減反射性能。將硅片置于HF/Fe(NO3)3的混合溶液中腐蝕，在硅片表面也會得到多孔硅結構，該多孔結構是大的腐蝕凹坑中分布著許多細小的孔洞，孔洞直徑在0.1-1μm，在400-1100nm波長范圍內平均反射率為6%。
　　通過在HF/(FeNO3)3溶液中二次化學腐蝕，在原來的金字塔結構基礎上得到多孔-金字塔結構，這種新結構在400-1000nm波長范圍內的平均反射率