尼龍-蒙脫土納米復合材料的制備、結構和性能的研究.pdf

1、選擇不同的插層劑修飾蒙脫土(MMT)并研究了其合成工藝條件;然后利用十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)、偶聯(lián)劑KH-550聯(lián)合修飾的蒙脫土作為有機化填料原位聚合法制備鑄型尼龍/蒙脫土納米復合材料及熔融法制備尼龍66/蒙脫土復合材料.成果簡述如下:1、蒙脫土的層間修飾.(1)利用粘度分析法研究了合成CTAB修飾蒙脫土的工藝條件:有機化試劑CTAB的用量為105mmol/100g土,反應溫度為70℃、時間為2h.XRD表明:CTAB進入MMT

2、層之間,使其層間距由原來的1.18nm擴大為3.0nm.紅外表明:CTAB已經(jīng)吸附在MMT中,使層間的親水性有較大幅度減弱.研究了制備偶聯(lián)劑KH-550修飾MMT合成條件:KH-550用量2％為乙醇水溶液,反應時間為1.5h;XRD表明:KH-550使層間距由原來的1.18nm擴大為1.9nm,紅外表明:偶聯(lián)劑KH-550與MMT表面的羥基發(fā)生了化學反應.(2)利用新型的陽離子二聚表面活性劑作為蒙脫土的有機化插層劑,成功地實現(xiàn)了二聚表面

3、活性劑進入蒙脫土片層間;XRD結果表明:當碳鏈長度為12時,MMT層間距由原來的1.18nm擴大為3.8nm,當碳鏈長度為16時,其層間距為4.2nm;提出了插層機理;紫外吸收光譜和分散性試驗結果表明:經(jīng)過該有機蒙脫土在親油性方面比CTAB修飾蒙脫土有較顯著的提高.2、原位聚合法制備鑄型尼龍/蒙脫土納米復合材料.XRD表明:MMT層間距被進一步擴大;蒙脫土的添加改變了MC尼龍的晶型.當土含量為2％時,球晶α/γ比值最大;甲酸試驗及紅外表