半導體熱電材料Bi-Sb合金薄膜的電化學制備.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩97頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

1、半導體熱發(fā)電模塊直接將熱能轉化為電能,無需化學反應及機械移動,可應用于火力發(fā)電廠、汽車尾氣等余熱發(fā)電,節(jié)能環(huán)保,有廣闊的應用前景。Bi(1-x)SbxRY是很好的低溫熱電材料,電沉積是其重要的制備方法之一。沉積條件的變化及電解質(zhì)體系的改變,均會對沉積膜的組成、形貌和組織結構產(chǎn)生影響,因此系統(tǒng)了解Bi-Sb合金沉積過程的電化學特性,及微觀組織結構與沉積參數(shù)之間的關系具有重要的科學意義和應用價值。
   本文選擇鉍、銻鹽為主要原料,

2、在研究Bi(Ⅲ),Sb(Ⅲ)離子在水溶液中的電化學行為的基礎上,探討了溫度、pH值、主鹽濃度、添加劑等對沉積膜組成、結構的影響,應用綜合熱分析儀測定熱處理過程中材料的DSC曲線,應用XRD、SEM對其結構及形貌進行表征,獲得該材料的電沉積制備條件與其結構、熱電性能的作用規(guī)律,為Bi-Sb薄膜的電沉積制備提供理論指導。研究的主要內(nèi)容包括以下幾個部分:
   1.針對Sb(Ⅲ)-HCl-H2O體系,應用熱力學計算方法,根據(jù)同時平衡原

3、理建立數(shù)學模型,以Sb(Ⅲ)的總濃度5×10-5mol/L為例,計算了不同pH時Sb(Ⅲ)的各種存在形式的濃度。Sb(Ⅲ)-HCl-H2O體系中,當1.30<pH<4時,Sb(Ⅲ)主要以SbO+的形式存在,含量大于99.8%。
   2.以熱力學計算結果為基礎,根據(jù)檸檬酸和Sb(Ⅲ)的配合反應,按照等摩爾連續(xù)變化法配制系列溶液,采用紫外分光光度法測定分析得到pH=2.5時,檸檬酸能與SbO+以1:1形成配合物,其穩(wěn)定常數(shù)為9.4

4、×105。
   3.通過對Bi-Sb合金膜電沉積液體系極化曲線的研究,理論上確定了電沉積溶液體系的主鹽為氯化銻、氯化鉍;研究了各種添加劑的對電沉積過程的影響規(guī)律;通過極化曲線,確定適宜了的電沉積條件為50mL電解質(zhì)溶液中硼酸1.0g,檸檬酸1.5-2.5g,檸檬酸鈉2.0-2.5g,氯化鈉2.0-2.5g,硫脲0.01g,酒石酸0.1g。
   4.研究熱電材料Bi-Sb薄膜的電化學制備方法,通過原子吸收和滴定的方法分

5、別考察不同電沉積條件:溫度、pH、電勢范圍、主鹽濃度對電沉積的Bi-Sb薄膜中各金屬含量的影響,在此基礎上,進行正交試驗,確定適宜的工藝條件為pH值為0~1,溫度30~35℃,主鹽濃度為0.4~0.6,沉積電勢范圍為[-0.7,-0.5]V。
   5.在上述最優(yōu)的工藝參數(shù)條件下制備出的摻雜La、Ce樣品薄膜,進行表征分析。DSC測試表明,鑭、鈰摻雜提高了Bi-Sb合金膜的抗氧化性。SEM形貌表征表明,稀土La、Ce的加入使Bi

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論