亞波長抗反射光柵的設計分析與制作.pdf

1、本論文主要對亞波長抗反射光柵進行了設計分析和制作工藝研究.本文利用嚴格耦合波理論和等效介質理論分析了亞波長抗反射光柵的結構參數以及材料對光柵衍射特性的影響.通過分析發(fā)現:1、在制作有一定特性的光柵時,光柵參數的選擇原則為:周期的取值應盡量的大,刻蝕深度的取值應盡量的小,占空比的取值應盡量靠近f=0.25;2、以參數的選擇原則結合制作的具體應用要求來選擇光柵的參數,則各個參數的優(yōu)化空間更大;3、當光柵的周期T≤0.4λ時,表面面形對反射率

2、沒有影響;4、運用臨界周期點隨折射率的變化規(guī)律,可以避免由于選擇光柵周期過大而出現一級衍射,從而導致制作失敗.在制作工藝的研究方面,首先研究了離子束刻蝕技術,通過對離子束刻蝕過程中各個參數對刻蝕元件的表面光潔度、輪廓保真度和線寬分辨的影響分析,結合掩膜的實際情況選擇出了合適的離子束入射角、離子能量、束流密度和刻蝕時間等參數.依照這些參數刻蝕出了高質量的特征尺寸為亞微米的環(huán)、光束整形元件和菲涅耳透鏡等元件.通過對刻蝕出的元件的檢測發(fā)現,元