磁控反應濺射制備TiN-AlN雙層薄膜及性能的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、在工業(yè)應用中通過表面涂層技術來提高切割工具、軸承、模具等的壽命是非常重要的,因此低摩擦系數(shù)、高硬度及耐腐蝕和抗氧化的涂層材料一直受到人們的重視。金屬碳化物和氮化物是常用的硬質涂層材料。過渡金屬氮化物特別是TiN,常被用來做工模具的防護涂層。但是單層薄膜的性能無法滿足應用上越來越苛刻的要求,這種情況下,具有更高硬度、耐腐蝕性及抗氧化性的雙層和多層復合涂層技術開始廣泛應用。
　　 本文采用直流反應磁控濺射法在P型Si(111)基底上

2、制備了單層TiN薄膜、單層AlN薄膜和TiN／AlN雙層薄膜。
　　 本文第一部分研究了濺射氣壓、濺射電流、基底溫度等工藝參數(shù)對單層TiN薄膜的影響。實驗證明,濺射電流為0.45A、基底溫度為480℃、濺射氣壓為0.6Pa時得到的TiN薄膜性能最優(yōu):結晶性最好、表面平整、粗糙度較小。
　　 本文第二部分研究了濺射氣壓對AlN薄膜結構和性能的影響,結果表明:在Ar／N2流量比為1:3、保持基底溫度為480℃、濺射電流為0.

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