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1、場(chǎng)致發(fā)射陰極是制備新型壓力傳感器和顯示器件的核心部位,由于其廣闊的應(yīng)用前景備受關(guān)注。本學(xué)位論文圍繞場(chǎng)致發(fā)射陰極的特性和機(jī)理開(kāi)展了一系列理論與實(shí)驗(yàn)工作,全文主要研究工作如下:1.總結(jié)了國(guó)內(nèi)外場(chǎng)致發(fā)射陰極制備的歷史現(xiàn)狀和各種工藝特點(diǎn),通過(guò)分析各種制備方法的特點(diǎn),確立了激光微加工和濕法腐蝕兩種工藝方法。 2.研究了場(chǎng)致發(fā)射的相關(guān)基礎(chǔ)理論,從理論上分析了兩種工藝特點(diǎn)的意義,并研究討論了半導(dǎo)體場(chǎng)致發(fā)射電流與半導(dǎo)體功函數(shù)和溫度的關(guān)系,為微錐
2、場(chǎng)致發(fā)射材料的選擇指明的方向。 3.仔細(xì)研究了激光微加工的工藝流程和特點(diǎn),并設(shè)計(jì)了相應(yīng)實(shí)驗(yàn)以測(cè)定該工藝可能達(dá)到的結(jié)果,發(fā)現(xiàn)該工藝還存在很大缺點(diǎn):能達(dá)到的工藝精度很難滿足我們的實(shí)際要求。 4.相對(duì)于激光微加工工藝,濕法腐蝕法能夠在硅表面刻蝕出內(nèi)表面光滑的形狀一致的錐體,且具有很好的可控性,實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明:采用該工藝能夠獲得較好質(zhì)量的聚合物微錐陣列,非常適合于場(chǎng)致發(fā)射陰極的制備。 總之,提出了一種聚合物微錐制備工藝方法
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