ITO透明導(dǎo)電膜的溶膠-凝膠法制備及其結(jié)構(gòu)性能的研究.pdf

1、本論文采用溶膠-凝膠法制備出透光導(dǎo)電ITO膜，并對不同工藝條件(不同退火方式、不同銦離子濃度)下所制備ITO膜的結(jié)構(gòu)及性能特征進行了分析研究，在此基礎(chǔ)上，采用正交實驗的方法研究分析了不同工藝條件對所制備ITO膜性能的影響，得出最佳工藝條件，論文還提出一種改進ITO膜導(dǎo)電性能的方法，即用紫外光照射處理ITO膜，以達到降低方阻、提高導(dǎo)電性能的目的。
　　 論文利用AFM和XRD對膜的形貌和晶體結(jié)構(gòu)進行了測試表征，利用四探針法和紫外-

2、可見分光光度計測試了膜的方塊電阻和透光率，結(jié)果表明ITO膜由納米晶體顆粒組成，為In2O3立方鐵錳礦的多晶結(jié)構(gòu)；通過3組不同退火方式及時間的比較實驗，得出經(jīng)過5次提拉5次退火處理后，所得ITO膜的結(jié)構(gòu)和性能相對同樣時間(5h)1次退火處理的有較大改變，前者具有較大的顆粒尺寸和較高的結(jié)晶度，層與層之間的結(jié)合更加致密，膜的導(dǎo)電性能明顯提高；通過制得銦離子濃度不同的5組溶膠，研究銦離子濃度對ITO膜結(jié)構(gòu)及性能的影響，得出隨溶膠中銦離子濃度的提

3、高，膜方阻總的變化趨勢是減小的，5層之前，這種變化尤為明顯，5層之后，由于膜表面粗糙度的增大和缺陷、裂縫的增多致使載流子的遷移率減小，因此方阻的減小不明顯，同樣原因也使膜的透光率隨銦離子濃度的提高有所降低；采用正交實驗的方法得出一組制備ITO膜的最佳實驗方案：錫銦摩爾比例為1：10，提拉速度為200mm/min，提拉次數(shù)為8次，退火溫度和時間分別為550℃和70min；用紫外光(功率分別為2000W、500W和15W)照射處理溶膠-凝膠