釹鐵硼燒結磁體的化學鍍表面防護處理研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文首先綜述了NdFeB永磁材料的腐蝕機理和各種防護處理工藝,在此基礎上,采用化學鍍的方法,在燒結NdFeB磁體表面鍍覆鎳基合金,以提高磁體的耐腐蝕性能。通過電化學工作站、結合力測量儀、掃描電鏡、能譜分析儀、X射線衍射、金相顯微鏡等分析儀器和手段,系統(tǒng)研究了鍍液組成和工藝參數(shù)對鍍層的結合力、成分、結構和性能的影響,以及相關的一些科學問題。主要研究結果如下: 在堿性鍍液中采用40KHz超聲波輔助施鍍,鍍層與NdFeB基體結合良好。

2、鍍層與燒結NdFeB基體的結合力隨超聲功率的增加先升高后下降。功率為150W時,鍍層與基體的結合力達到最大(25MPa),遠高于無超聲波輔助時的結合力(6MPa)。超聲波對鍍層結合力的作用機理主要包括超聲波的活化作用、空化作用和攪拌作用。鍍液中添加Nd3+也能改善鍍層與NdFeB基體的結合力,原因是它在施鍍初期有效抑制了釹元素的腐蝕。 羧乙基硫脲翁甜菜堿與常用的穩(wěn)定劑相比,具有使用范圍廣,穩(wěn)定性能佳的特點。添加量少于8 mg/L

3、時,對鍍層沉積有加速作用,而添加量大時又可作為絡合劑。此外,羧乙基硫脲翁甜菜堿還對鍍層具有整平、光亮的作用。研究結果表面,羧乙基硫脲翁甜菜堿的加速作用主要是因為在鍍液中容易被氧化,釋放出的電子被Ni2+接受后還原成Ni,自身同時被氧化成二聚物,然后再被次磷酸根還原。 確定化學鍍Ni-P合金光亮劑的最佳成分配方為:苯亞磺酸鈉20mg/L,吡啶80 mg/L,烯炳基磺酸鈉20mg/L,硫脲1mg/L。當苯亞磺酸鈉和吡啶用量少于15m

4、g/L時,沉積速度隨苯亞磺酸鈉和吡啶量的增加而增加,如果繼續(xù)增加苯亞磺酸鈉和吡啶的用量,則沉積速度迅速下降。隨烯丙基磺酸鈉用量的增加,沉積速度逐漸降低,但烯丙基磺酸鈉用量在20~50mg/L范圍內,沉積速度的變化較小。從添加光亮劑的鍍液中得到的鍍層表面光亮平整,孔隙率低,耐中性鹽霧試驗比普通鍍層強。 添加稀土鐿可以有效地提高Ni-P沉積層在腐蝕介質中的自腐蝕電位,降低腐蝕電流密度,從而提高磁體的抗腐蝕性能。稀土元素鐿能降低基體的

5、表面能、降低臨界形核功、提高形核率、促使結晶細化。添加量為0.15 g-L-1時,鍍層表面胞狀組織細小、致密,具有最高的耐腐蝕性能。鍍液中添加2~20 g/L氟化銨時,鍍液的緩沖性能隨氟化銨添加量的增加而提高,鍍層的耐腐蝕性也相應提高。添加量為20 g-L-1,其緩沖性能優(yōu)異,遠高于H3803、(CH2)2(COOH)2、CH3COONa。氟化銨對化學鍍鎳磷的作用機理主要是氟離子加速H2PO2-的H-P鍵的斷裂,降低基體表面化學鍍鎳反應

6、的活化能,跟溶劑發(fā)生化學發(fā)應;同時,銨根離子也起到絡合金屬離子的作用。 用不同物質的量之比的乳酸和乙酸鈉作絡合劑時,隨乳酸摩爾分數(shù)的增加,鍍速先升高后下降,在,n(CH3CHOhCOOH):n(CH3COONa)為4∶6時,鍍速達到最大值,在此溶液中所得鍍層的磷含量為7.8 at.%,平均晶粒尺寸為6 nm,表面顯微硬度達到HV820,是目前文獻報道未經(jīng)熱處理相應鍍層的最高硬度值。利用此鍍層與非晶態(tài)鍍層在腐蝕介質中的電位差,結合

7、超聲波預鍍層,組成了高耐蝕的三層化學鍍鎳磷保護鍍層,避免了點蝕現(xiàn)象的發(fā)生,提高了鍍層的耐腐蝕性能和耐磨性能。 對酸性和堿性鍍液中化學鍍沉積反應活化能的實驗測試表明,由于酸性鍍液中采用pK值較低的乳酸作為絡合劑,反應體系的活化能較低,鍍速較高。提出了酸性化學鍍Ni-P合金沉積動力學的經(jīng)驗速率方程式,對方程驗證結果表明,方程與實驗值非常吻合。 在燒結NdFeB基體上研究了化學鍍Ni-Cu-P合金,結果發(fā)現(xiàn),隨【cu2+】/【

8、Ni2+】比值增加,鍍層中Cu含量增加,而Ni含量和P含量逐漸減小;【Cu2+】/【Ni2+】從0.01逐漸增大到0.20時,鍍層結構由非晶態(tài)向晶態(tài)轉變。pH值為9.0,溫度為80"C時,從【Cu2+】/【Ni2+】配比為0.01~0.05的鍍液中得到的鍍層具有高的耐腐蝕性能。 化學鍍Ni-Co-P合金鍍層能夠顯著改善NdFeB磁體的耐腐蝕性能,使磁體在3.5wt%NaCl溶液中的腐蝕速度降低約兩個數(shù)量級。隨著鍍液中CO2+濃度

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