微種植體支抗后退整個(gè)上牙列時(shí)(牙合)平面改變的三維有限元研究.pdf

1、目的：
　　 利用多三維有限元的方法探索利用微種植體支抗后退整個(gè)上牙列時(shí)(牙合)平面的變化,以期為種植體支抗的口腔臨床應(yīng)用提供有意義的指導(dǎo)作用。
　　 材料與方法：
　　 用64排多層螺旋CT對(duì)一成人女性志愿者進(jìn)行斷層掃描,將CT掃描后的數(shù)據(jù)傳送到Mimics10.0中,根據(jù)骨組織與牙體組織的灰度值的差異,分別提取上頜骨及各牙齒結(jié)構(gòu)的相關(guān)信息,得到包含完整上牙列和部分上頜骨的三維圖像數(shù)據(jù),再將其導(dǎo)入Geomagi

2、c studio11.0中進(jìn)行光滑處理,得到質(zhì)量較高的光滑的牙列及牙槽骨模型。將此高質(zhì)量模型導(dǎo)入ANSYS13.0中,并與在ANSYS中做好的托槽、弓絲、微種植體支抗及牽引鉤按實(shí)際情況進(jìn)行布爾運(yùn)算從而整合到一起。設(shè)定牽引鉤高度為5mm,微種植體植入高度按低位(距弓絲平面4.5mm,5.3mm,6.2mm)、中位(距弓絲平面8.5mm,9.3mm,10.2mm)、高位(距弓絲平面12.5mm,13.3mm,14.2mm)三種情況建立三維有

3、限元模型,分別對(duì)此有限元模型賦材質(zhì)、選擇單元類(lèi)型并進(jìn)行網(wǎng)格劃分。研究在牽引鉤和微種植體間施加值為2N(200g)的力后退整個(gè)上牙列時(shí),上頜中切牙近中切角及第一磨牙近中頰尖在垂直向的瞬間位移趨勢(shì),從而探索利用微種植體支抗后退整個(gè)上牙列時(shí)(牙合)平面的變化。
　　 結(jié)果：
　　 微種植體支抗植入高度在低位(距弓絲平面4.5mm、5.3mm、6.2ram)、中位(距弓絲平面8.5mm、9.3mm、10.2mm)、高位(距弓絲平

4、面12.5mm、13.3mm、14.2mm)三種情況下中切牙近中切角的垂直向位移量分別是低位時(shí)-8.16×10-6mm、-7.08×10-6mm、-5.31×10-6mm,中位時(shí)-1.63×10-6mm、-1.04×10-6mm、0.64×10-6mm,高位時(shí)4.11×10-6mm、5.66×10-6mm、6.99×10-6mm;第一磨牙近中頰尖的垂直向位移量分別是低位時(shí)-6.82×10-6mm、-6.43×10-6mm、-5.62×1

5、0-6mm,中位時(shí)-4.61×10-6mm、-4.21×10-4mm、-3.95×10-6mm,高位時(shí)-3.38×10-6mm、-2.89×10-6mm、-2.64×10-6mm。
　　 結(jié)論：
　　 當(dāng)牽引鉤高度為5mm時(shí),不同微種植體支抗植入高度會(huì)對(duì)(牙合)平面產(chǎn)生不同的影響。
　　 1、微種植體支抗低位植入時(shí),上頜殆平面整體向下,伴有輕度的順時(shí)針旋轉(zhuǎn),但幅度較小。
　　 2、微種植體支抗中位植入時(shí),

6、上頜(牙合)平面開(kāi)始出現(xiàn)逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)。
　　 3、微種植體支抗高位植入時(shí),中切牙近中切角出現(xiàn)齦方移位,第一磨牙近中頰尖雖向(牙合)方伸長(zhǎng),但幅度減小,上頜(牙合)平面明顯逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)。
　　 所以,前牙覆(牙合)關(guān)系正常的患者,當(dāng)牽引鉤設(shè)定為5mm并使用微種植體支抗整體后退牙列時(shí),應(yīng)選擇低位植入來(lái)保持殆平面的穩(wěn)定:前牙深覆(牙合)的病例,應(yīng)結(jié)合患者具體的畸形程度選擇中位或高位植入:前牙開(kāi)(牙合)的病例,在整體后退牙弓時(shí),一定