環(huán)境因素及控制方法研究——以集成電路工廠光刻區(qū)為例.pdf

1、集成電路產業(yè)是我國重點發(fā)展的新興戰(zhàn)略產業(yè)，國家集成電路十二五規(guī)劃中明確了集成電路是國家戰(zhàn)略性新興產業(yè)，，集成電路制造業(yè)是集成電路產業(yè)中極其重要的一環(huán)。
　　集成電路制造是一個非常復雜的流程，其中光刻是其中最重要的環(huán)節(jié)。由于光刻設備的精密性要求以及光刻材料的敏感性，環(huán)境因素會對其產生非常大的影響從而影響產品質量，尤其是微振動、顆粒污染和氣態(tài)分子污染屬于環(huán)境工程學需要研究的對象。
　　本文嘗試從光刻設備的原理出發(fā)，結合國內外資料

2、及自身工作實踐經驗，論述上述環(huán)境因素對生產造成的影響，分析各類對光刻區(qū)生產造成影響的環(huán)境污染因子的來源以及相關控制標準的對比，進而介紹其控制原理及控制方法，包括各類設備及其應用方案，然后以層次分析（AHP）和趨勢圖分析的方法來對實際案例進行分析。
　　光刻區(qū)域的環(huán)境因素很多，需綜合考慮并有針對性地采取措施。本研究較完整地分析了集成電路生產線光刻區(qū)域的環(huán)境因素控制方法，推導了在微振動、顆粒污染和氣態(tài)分子污染方面有效的處理流程并總結了