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文檔簡(jiǎn)介
1、電容觸摸屏的原理及工藝制程,2,電容屏工作簡(jiǎn)單數(shù)學(xué)模型,當(dāng)手指或?qū)w觸摸到TP時(shí),電容值Cp就會(huì)產(chǎn)生變化,3,工作原理概括,1.觸摸TP,寄生電容產(chǎn)生變化2. 發(fā)射極發(fā)射信號(hào),經(jīng)過(guò)容抗,阻抗后,信號(hào)產(chǎn)生滯后或超前,接收極接受信號(hào)后計(jì)算出具體數(shù)值,掃描整屏,產(chǎn)生數(shù)據(jù)矩陣3. 和基準(zhǔn)數(shù)據(jù)矩陣對(duì)比,產(chǎn)生DIFF值矩陣,使用重心算法映射到LCD分辨率,得出具體坐標(biāo)值,賦予ID號(hào)4. 產(chǎn)生中斷,主控使用IIC讀走數(shù)據(jù),4,電容觸摸屏分類(lèi),C
2、TP(Capacity Touch Panel)表面電容式投射電容式自電容:檢測(cè)通道與地之間的寄生電容變化,有手指存在時(shí)寄生電容會(huì)增加,IC 通道pin 既是發(fā)射極 又是接收極互電容:檢測(cè)發(fā)射通道和接受通道交叉處的互電容(也就是耦合電容)的變化,有手指存在時(shí)互電容會(huì)減小,IC 通道pin 發(fā)射極和接受極是分開(kāi)的,5,自電容觸摸屏結(jié)構(gòu),串行驅(qū)動(dòng)/感應(yīng)特點(diǎn)M+N個(gè)電容M+N條連線 模擬多點(diǎn)(2點(diǎn)),6,互電容觸摸屏結(jié)構(gòu)
3、,,串行驅(qū)動(dòng) 并行感應(yīng)特點(diǎn) M*N個(gè)電容 M+N條連線真實(shí)多點(diǎn),7,互電容 VS 自電容,8,電容式觸摸屏常見(jiàn)工藝結(jié)構(gòu),G/FG/F/FG/F2GIFG/G(G/G S , G/G D)OGS(TOL)On CellIn Cell,9,G/F結(jié)構(gòu)解析,蓋板/Lens/Cover Glass/Cover Lens作用:保護(hù)/功能/裝飾要求:強(qiáng)度/硬度/透光率OCA(固態(tài)光學(xué)膠,LOCA液態(tài)光學(xué)膠)
4、要求:透光率/粘性Film Sensor特點(diǎn):?jiǎn)螌?單點(diǎn)+手勢(shì)/或者單層多點(diǎn),支持最大尺寸5寸,10,G/G結(jié)構(gòu)解析,結(jié)構(gòu)同于G/F,區(qū)別在于Film Sensor變?yōu)镚lass Sensor特殊的兩種情況:G/G D雙面玻璃工藝(eg.:Apple)G/G S單面搭橋工藝(Metal Jump),11,電容式觸摸屏堆疊結(jié)構(gòu)比較,12,圖形方案,菱形+Cypress,條形+ Synaptics,網(wǎng)形+Atmel
5、,13,自電容三角形,三角形+ Atmel,14,圖形方案實(shí)物,菱形,長(zhǎng)條形,三角形,15,G/G S工藝通常使用搭橋工藝,只需要一片ITO玻璃一面搭橋做ITO層另一面做屏蔽層主要用于小尺寸的屏藝少,成本、良率好控制,16,電容式觸摸屏新工藝,OGS/TOL(One Glass Solution/Touch On Lens)單層多點(diǎn)On Cell(觸摸面板功能嵌入到彩色濾光片基板和偏光
6、板之間)In Cell(觸摸面板功能嵌入到液晶像素中),17,控制芯片廠家,CypressSynaptics 新思 4層結(jié)構(gòu) Atmel 2層結(jié)構(gòu)敦泰、匯頂、威盛、聯(lián)發(fā)科瀚瑞、義隆電,18,控制芯片廠家LOGO,19,電容式觸摸屏幾種工藝制程的特點(diǎn),酸堿脫膜:效率高、成本低、精度低蝕刻膏蝕刻:與酸堿脫膜一樣,效率高、成本低、精度低。工藝更簡(jiǎn)單,工藝圖案與酸堿脫膜相反,難點(diǎn)是涂布不勻容易造成蝕刻不凈,更難清洗等激光蝕刻:精度
7、較高,30 μm ,效率低,成本低,工藝簡(jiǎn)單,良率高,環(huán)保黃光工藝:精度最高,對(duì)位精度± 5 μm ,蝕刻精度± 5 μm ,能蝕刻5 μm,一般量產(chǎn)用20μm,20,使用激光工藝時(shí)常見(jiàn)的工藝流程(GFF/酸堿+Laser),來(lái)料(卷材,較好的ITO基材有背保)開(kāi)料(按需要的尺寸裁切成片材)老化(烘烤,將收縮率降到最低)撕膜(撕掉ITO面的保護(hù)膜)絲印耐酸(保護(hù)要留下的Sensor電路,沒(méi)有背保的基材要印背
8、保)酸刻Sensor電路堿洗耐酸水洗(洗掉化學(xué)殘留)絲印銀膠塊(通常為了保護(hù)可視區(qū)不被劃傷,印銀膠前會(huì)印刷正保)烘烤(白格測(cè)試附著著力)激光干刻引線電路(通斷檢測(cè))貼OCA光學(xué)膠(有的用液態(tài)膠)激光裁切讓位孔(部分會(huì)在激光裁切是分層切出讓位部分)Sensor上下線貼合激光裁切(Sheet→Piece)邦定FPC(Bonding后需要檢測(cè)無(wú)Lens是的功能)蓋板貼合(CTP成型,觸摸屏功能測(cè)試,出廠),21,使用激
9、光工藝時(shí)常見(jiàn)的工藝流程(GFF/Laser ),來(lái)料(卷材,較好的ITO基材有背保)開(kāi)料(按需要的尺寸裁切成片材)老化(烘烤,將收縮率降到最低)撕膜(撕掉ITO面的保護(hù)膜)絲印耐酸(保護(hù)要留下的Sensor電路,沒(méi)有背保的基材要印背保)酸刻Sensor電路堿洗耐酸水洗(洗掉化學(xué)殘留)絲印銀膠塊(通常為了保護(hù)可視區(qū)不被劃傷,印銀膠前會(huì)印刷正保)烘烤(白格測(cè)試附著著力)激光干刻引線電路(通斷檢測(cè))
10、 ITO+Ag蝕刻貼OCA光學(xué)膠(有的用液態(tài)膠)激光裁切讓位孔(部分會(huì)在激光裁切是分層切出讓位部分)Sensor上下線貼合激光裁切(Sheet→Piece)邦定FPC(Bonding后需要檢測(cè)無(wú)Lens是的功能)蓋板貼合(CTP成型,觸摸屏功能測(cè)試,出廠),,22,使用激光工藝時(shí)常見(jiàn)的工藝流程(GF/酸堿+Laser),來(lái)料(卷材,較好的ITO基材有背保)開(kāi)料(按需要的尺寸裁切成片材)老化(烘烤,將收縮率降到最低)撕膜
11、(撕掉ITO面的保護(hù)膜)絲印耐酸(保護(hù)要留下的Sensor電路,沒(méi)有背保的基材要印背保)酸刻Sensor電路堿洗耐酸水洗(洗掉化學(xué)殘留)絲印銀膠塊(通常為了保護(hù)可視區(qū)不被劃傷,印銀膠前會(huì)印刷正保)烘烤(白格測(cè)試附著著力)激光干刻引線電路(通斷檢測(cè))貼OCA光學(xué)膠(有的用液態(tài)膠)激光裁切讓位孔(部分會(huì)在激光裁切是分層切出讓位部分)Sensor上下線貼合激光裁切(Sheet→Piece)邦定FPC(Bonding后需
12、要檢測(cè)無(wú)Lens是的功能)蓋板貼合(CTP成型,觸摸屏功能測(cè)試,出廠),23,使用激光工藝時(shí)常見(jiàn)的工藝流程(GF/Laser),來(lái)料(卷材,較好的ITO基材有背保)開(kāi)料(按需要的尺寸裁切成片材)老化(烘烤,將收縮率降到最低)撕膜(撕掉ITO面的保護(hù)膜)絲印耐酸(保護(hù)要留下的Sensor電路,沒(méi)有背保的基材要印背保)酸刻Sensor電路堿洗耐酸水洗(洗掉化學(xué)殘留)絲印銀膠塊(通常為了保護(hù)可視區(qū)不被劃傷,印銀膠前會(huì)印刷正保
13、)烘烤(白格測(cè)試附著著力)激光干刻引線電路(通斷檢測(cè)) ITO+Ag蝕刻貼OCA光學(xué)膠(有的用液態(tài)膠)激光裁切讓位孔(部分會(huì)在激光裁切是分層切出讓位部分)Sensor上下線貼合激光裁切(Sheet→Piece)邦定FPC(Bonding后需要檢測(cè)無(wú)Lens是的功能)蓋板貼合(CTP成型,觸摸屏功能測(cè)試,出廠),,24,使用激光工藝時(shí)常見(jiàn)的工藝流程(GF/單層多點(diǎn)),來(lái)料(卷材,較好的ITO基材有背
14、保)開(kāi)料(按需要的尺寸裁切成片材)老化(烘烤,將收縮率降到最低)撕膜(撕掉ITO面的保護(hù)膜)絲印耐酸(保護(hù)要留下的Sensor電路,沒(méi)有背保的基材要印背保)酸刻Sensor電路堿洗耐酸水洗(洗掉化學(xué)殘留)絲印銀膠塊(通常為了保護(hù)可視區(qū)不被劃傷,印銀膠前會(huì)印刷正保)烘烤(白格測(cè)試附著著力)激光干刻引線電路(通斷檢測(cè)) ITO Sensor蝕刻貼OCA光學(xué)膠(有的用液態(tài)膠)激光裁切讓位孔(部分會(huì)
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