第9講 冶金機電類-案例二(2012年新版)

1、案例二中芯國際集成電路制造(北京)有限公司超大規(guī)模集成電路芯片生產線項目一、項目工程概況與工程分析(一)項目背景本項目擬建于北京經濟技術開發(fā)區(qū)內。擬建設8英寸(2032cra)035～018gm芯片(月投片30000片)；12英寸(3048cm)先進制程線，013—009gm芯片(月投產3000片)。本項目建設期2年(2002—2003年，實際125年)，試生產期2年，達產期4年，總投資為125億美元。(二)項目概況1項目組成本項目由生

2、產設施、動力設施、化學品設施、氣體設施、環(huán)保設施、安全衛(wèi)生設施、消防設施、管理服務設施以及相應的建筑物組成。芯片項目組成見表1。2.總平面布置廠區(qū)總平面效果見圖1.二，環(huán)境概況1地理位置廠址位于北京經濟技術開發(fā)區(qū)(BDA)41、47號地塊，征地面積240030m2，其中41號地塊面積136754m2、47號地塊面積103276m’，見圖2。2環(huán)境質量本項目對芯片加工類的特征空氣污染物、地下水特征污染物和土壤特征污染物進行了監(jiān)測。環(huán)境空氣

3、監(jiān)測了氟化物、氯化氫、氨氣、氯氣、硫酸霧、非甲烷總烴共6項；地下水環(huán)境監(jiān)測，W、B共2項；土壤監(jiān)測了砷(As)、硼(B)、氟(F)和鎢(W)共4項。通過監(jiān)測結果可以看出環(huán)境本底較好，沒有超標的污染項。3廠址選擇合理性分析由于中國與發(fā)達國家相比，在關鍵技術如軟件、集成電路和新型元器件等方面相對落后，CPU芯片和存儲器的設計與制造能力薄弱，電訊、通訊市場將是首先受到入關沖擊的領域之一。因此，我國的信息產業(yè)政策中有很重要的一條，就是中國鼓勵外

4、資進入信息產業(yè)，希望信息產業(yè)的外商投資企業(yè)進一步提高技術檔次，擴大投資規(guī)模。深亞微米工藝技術已是國際上的主流生產技術，本項目的實施可以推廣在國內微電子技術的升級發(fā)展，提高電子產品開發(fā)、生產，并會促進我國集成電路產業(yè)走向國際。因此，該項目的性質完全符合國家信息產業(yè)發(fā)展規(guī)劃和政策。本項目為高科技、高附加值的集成電路行業(yè)，項目地址位于北京市經濟技術開發(fā)區(qū)內。在北京市“十五”時期工業(yè)發(fā)展規(guī)劃的產業(yè)布局調整目標中明確指出：“北京經濟技術開發(fā)區(qū)：建

5、設成北京現代制造業(yè)的窗口基根據類比數據，化學材料在運輸過程中，在罐裝、管道等接口處可能的極微量泄漏約為總量的005％。本評價考慮的是使用量較大的氟化氫，年使用量按52075kg／a計，泄漏量按最壞情況來考慮，為總量的08％計，可得到氟化氫極微量泄漏約為0048kg／h。2水污染源分析本項目水污染源主要包括生產廢水和生活污水。根據本項目的生產工藝和廢水水質特征，在生產過程中產生的廢水主要可分為含氟廢水、研磨廢水(分為金屬研磨廢水、氧化研磨

6、廢水、晶背研磨廢水)、酸堿廢水(包括工藝酸堿廢水、洗滌塔廢水、純水系統(tǒng)再生廢水)和含氨廢水。此外還有純水站濃縮廢水、工藝設備冷卻水、冷凍水和冷卻塔排水，為較清潔麥水，作為回用水。廢水處理站主體部分位于CUB2一層，主要包括含氟廢水處理系統(tǒng)、酸堿廢水中和處理系統(tǒng)、污泥處理系統(tǒng)、加藥系統(tǒng)、部分廢液收集系統(tǒng)、廢水處理站控制室及部分處理設施的預留位置；另一部分位于生產廠房FAB4／FAB5／FAB6C的一樓，主要包括化學機械研磨廢水、芯片背面研

7、磨廢水收集及輸送設施。3固體廢物固體廢物產生量及其組分，詳見表2。4噪聲污染源本項目噪聲源污染狀況可分為兩個部分：一個為生產廠房(FAB4／FAB5／FAB6C)噪聲污染源；另一個為動力設施(變電站PS2、動力站CUB2)及其他輔助設施產生的噪聲污染源。噪聲污染主要在動力房室內，如冰水機、動力泵及其他產生噪聲的動力設備；另外柴油發(fā)電機(緊急用)、冷卻塔風扇、空調風扇與生產用的真空泵都會產生噪聲污染。(三)平衡分析1水平衡水平衡圖見圖5。

8、每天實際耗水量為206884m3／d，其中新鮮水(自來水)量為4500m3／d，廢水回用量為3424m3／d，循環(huán)水量為198960m3／d。純水回用率為：(2200170170)／4150=612％項目水復用率為：(220017017015015025050284198960)／(34241989604500)=978％2物料平衡本項目在生產過程中使用50多種化學原料，根據中芯國際集成電路制造(上海)有限公司的經驗，對擬建項目所涉及的